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Hightech made in Austria

Der Technologieführer von Elektronen-Multistrahl-Maskenschreibern kommt aus Österreich.

 

Hightech made in Austria

Know-how, Erfindergeist und Engagement machen uns zu technischen Vorreitern weltweit.

 

High Tech made in Austria

Erfolgreich und innovativ in den Branchen Mechatronik und Sondermaschinenbau.

Fotos: Jost & Bayer

Die IMS Nanofabrication GmbH ist ein österreichisches Unternehmen und der internationale Technologieführer für Elektronen-Multistrahl-Maskenschreiber. Unsere Kunden sind die größten Chiphersteller der Welt, die für die Produktion heutiger und künftiger Chip-Generationen auf IMS setzen.

Unsere innovativen Multistrahlschreiber nehmen eine Schlüsselrolle in der Chip-Produktion ein und stellen einen wesentlichen Mehrwert für die Halbleiterindustrie dar. Sie werden von einem interdisziplinären Team laufend den aktuellen Anforderungen angepasst und weiterentwickelt.

In den vergangenen zehn Jahren haben wir die elektronenbasierte Multistrahl-Technologie perfektioniert. Die aktuelle Geräte-Generation (MBMW-101 – 1st generation Multi-Beam Mask Writer) ist heute erfolgreich in der ganzen Welt im Einsatz. Seit Anfang 2019 ist der Multistrahl-Maskenschreiber der 2. Generation MBMW-201 für die 5nm-Technologie-Node auf dem Markt.

Das Know-How von IMS ist durch unterschiedliche Experten aus einer Vielzahl von Disziplinen wie Entwicklung, Projektmanagement, Supply Chain, Produktion, Service und Administration geprägt.

„Unsere Multistrahltechnologie ist der Schlüssel für die Weiterentwicklung in der Halbleiterindustrie.“

Dr. Elmar Platzgummer, CEO

Vision & Mission

Wir haben die Vision, die Grenzen der Halbleiterindustrie neu zu definieren. Unsere Mission ist es, die erste Wahl für Multi-Elektronenstrahl-Schreiber zu sein.

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Unsere Geschichte

Markante Meilensteine geben Aufschluss über die Entwicklung der Elektronenstrahl-Schreiber. Die Geschichte der IMS Nanofabrication GmbH von 1985 bis heute.

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IMS ist ein multidisziplinäres Hightech-Unternehmen, das auf Innovation in der Elektronenstrahl-Litographie im Nanobereich spezialsiert ist.

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